Produktöversikt

Vårt företags tre Magnetron Sputtering Equipment, baserad på PVD-teknik, avsätter alla högkvalitativa-metall-, dielektriska- och halvledarfilmer, men skiljer sig i applikationsfokus.

Ta den industriella enkammarmodellen-: den är konstruerad för stor-produktion, med enastående målutnyttjande som håller kostnaderna i schack. Den hanterar 8-tums wafers sömlöst och levererar de konsekventa industriella tillverkningskraven.

Sedan finns det den industriella flerkammarversionen- som använder modulära, oberoende kammare (tänk uppvärmning, sputtering och mer) för att automatisera hela beläggningsprocessen.

Det är en-omvandlare för att mass-producera komplexa fler-filmer, vilket minskar antalet manuella ingrepp. Forsknings-betygsmaskinen är å andra sidan designad speciellt för universitet och forskningsinstitutioner. Den erbjuder flexibla inställningar-som multi-förstoftning av mål-för att ta emot små-satsvis FoU-arbete, oavsett om det gäller kiselkarbidmaterial eller kvantchipprototyper. Över alla tre håller vi fast vid vårt åtagande om "hantverkskvalitet", och ser till att de möter de olika behoven inom halvledarindustrin.

För att få den bästa lösningen för dig, vänligen kontakta oss.

Ansökningar

Vårt företags tre Magnetron Sputtering Equipment har var sin nisch-tillsammans som täcker alla behov inom halvledarindustrin.

Ta den industriella enkammarmodellen-: det handlar om storskalig-tillverkning, som integrerade kretsar. För 8-tums wafer-tunnfilmsförberedelse är den snabb och stadig, passar direkt in i CMOS/IGBT-produktionslinjer och når både kapacitets- och avkastningsmål utan problem.

Den industriella fler-kammaren sticker ut med full automatisering och solid integration. De där knepiga komplexa fler-filmerna för 5G och optoelektroniska enheter? Den hanterar dem lätt och uppfyller de snäva precisionskraven för massproduktion.

Sedan är forsknings-betygsmodellen-den här skräddarsydd för universitetets FoU. Den stöder små-satstester på nya material som kiselkarbid och fungerar som en superflexibel verifieringsplattform.

Fördelar

Våra tre Magnetron Sputtering-utrustning ger var och en riktade styrkor till bordet, skräddarsydda för distinkta applikationsscenarier:

1. Industriell enkammarmodell-:

Det får höga poäng med högt målutnyttjande-som direkt minskar driftskostnaderna. Vid bearbetning av 8-tums wafers ger den en stenhård prestanda; filmlikformigheten håller sig inom ±3 %, vilket lätt uppfyller industriella avkastningskrav. Dessutom gör dess enkla struktur underhållet enkelt.

2. Industriell multi-kammarmodell:

Modulära automatiserade kammare är dess ess i hålet, vilket ökar produktionseffektiviteten avsevärt. Den har också avancerad partikelkontroll, som säkerställer filmrenhet på topp-nivå-perfekt för att skapa fler-filmer som används i 5G och optoelektroniska enheter. Dess starka integrationsförmåga låter den dessutom anpassa sig till ett brett utbud av material sömlöst.

3. Forskning-Betygsmodell:

Den är designad med FoU i åtanke och erbjuder flexibla inställningar som sputtering med flera-mål för att passa nya behov av materialutveckling. Precision på mikrometer-nivå ger tillförlitligt stöd för processverifiering, och dess lilla-batch-bearbetningsdesign hjälper till att minska på utgifter för FoU-prov-idealiskt för laboratorieutforskning.

Parametrar

Punkt	Industriell enkammarmodell.-	Industriell multi-kammarmodell	Forskning-Betygsmodell
Tillämplig waferstorlek	8 tum och under	6 tum / 8 tum	8 tum och under
Ultimat vakuum	8x10-5 Pa	2x10-5 Pa	-
Filmens enhetlighet	Mindre än eller lika med ±3 %	Mindre än eller lika med ±3 %	±3 %(4-tums mål, 8-tums wafer)
Substrat Stage Temp.Control	RT-650 grader (eller kylning)	-	RT-600 grader (värme eller kyla)
Substratstegets rotationshastighet	-	-	5-20 rpm
Sputtering Metod	Sputtring av enstaka-mål	-	Enstaka-mål/fler-målsekvens/sam-sputtring
Strömförsörjning	Tillval DC/RF/MF	-	Tillval DC/RF/MF
Nyckelkonfigurationer	Enkel processkammare; Mindre än eller lika med 4 målvapen	Mindre än eller lika med 5 processkammare (uppvärmning, kylning, sputtering, etc.)	Sputtering med flera-mål: för-vakuumkammare (valfritt); provrengöringsmodul
Tillämpliga material	Kisel, föreningar, keramik, etc.	Kisel, föreningar, etc.	Metaller (Al, Au, Cu), dielektrika (SiO2, TaN), halvledare

FAQ

Hur väljer man bland de tre modellerna?

För massproduktion av 8--tums wafers (t.ex. CMOS/IGBT), välj den industriella single-cavity-modellen; för komplexa flerskiktsfilmer i 5G/optoelektronik, välj den industriella multikavitetsmodellen; för forskning och utveckling av nya material vid universitet (t.ex. kiselkarbid), välj forskningsmodellen.

Stöder den icke-kisel-baserad materialbeläggning?

Ja, den stöder allt, täcker keramik, sammansatta halvledare, metaller (Al/Au), dielektriska (SiO₂), etc.

Kan waferstorleken utökas?

Standard är 8 tum och lägre (6-8 tum för modellen med flera-hålrum). Småskalig expansion kan skräddarsys i förväg, men processens genomförbarhet måste bedömas.

Vilka är testförhållandena för filmtjocklekslikformighet Mindre än eller lika med ±3 %?

Baserat på 8-tums wafers (4-tums target + 8-inch wafer för forskningsmodellen), standardtestning av metall/dielektrisk filmskikt. Optimering är möjlig för olika material/filmtjocklekar.

Ges installationsutbildning?

Vi tillhandahåller-installation och driftsättning på plats, plus drift-/underhållsutbildning för att säkerställa att teamet snabbt kan komma igång.

Kan utrustningen uppgraderas senare?

Multi-kavitets- och forskningsmodeller kan uppgraderas med målpistoler/för-vakuumkammare; enkla-kavitetsmodeller har begränsad uppgraderingspotential, så vi rekommenderar att du tydligt definierar långsiktiga-behov redan från början.

Hur lång är leveranscykeln? Kan det påskyndas?

Enkla-hålrums-/forskningsmodeller: 8-12 veckor; modeller med flera kaviteter: 12-16 veckor; Snabb leverans är förhandlingsbar och beror på produktionslinjens schemaläggning.

Finns det några rabatter på underhållskostnader efter-produktion?

Främst för målmaterial och förbrukningsvaror. Förbrukningsartiklar erbjuds till en rabatt på mer än eller lika med 10 % i 5 år efter garantiperioden. Vi tillhandahåller även underhållsvägledning för att minska kostnaderna.

Populära Taggar: magnetron sputtering utrustning, Kina magnetron sputtering utrustning tillverkare, leverantörer